半導体フォトマスク市場は2015年に33億ドルの予測

SEMI市場調査統計部門シニア市場アナリスト ローラ・チャムネス

半導体フォトマスクの世界市場は、2013年に31億ドルでしたが、2015年に33億ドルに達することが予測されます。この市場は、2012年に3%縮小した後、2013年には1%成長しました。今後の2年間は、3%ずつの連続成長が予測されます。この市場を主にけん引しているのは、これまでと同様に45nm未満の微細プロセスと、アジア太平洋地域における生産拡大です。台湾は4年連続でフォトマスクの最大地域市場となり、今回の予測の範囲ではそのポジションに留まり続けるでしょう。

2013年の地域別フォトマスク市場

出典：SEMIフォトマスク・キャラクタリゼーション・サマリレポート（2014年3月）

2003年はフォトマスク市場全体に占める内製マスクハウスの比率は31%でしたが、2007年からその市場シェアは微増しています。現在の市場において、主要な外販マスクショップは、大日本印刷、HOYA、Photronics、凸版印刷の4社です。内製マスクハウスは、2011年と2012年の大規模な資本支出と2013年の円安の影響*によって、昨年の外販メーカーからの市場獲得を加速しました。内製マスクメーカーは、2012年の42%から成長し、昨年はフォトマスク市場全体の49%を占めました。

外販ショップの市場占有率が減少傾向にあるにも関わらず、外販ショップはフォトマスク市場にとってふたつの重要な役割を果たしています。その役割とは、通常45nmよりも大きいスタンダードマスクセットの提供と、自然災害やファブ火災などによりサービスが中断された場合のバックアップ生産能力となることです。

フォトマスクメーカーが直面する最大の障害は、経済的な問題です。微細化が進むにつれ、フォトマスクの製造装置や材料もさらに進んだものが必要になりますが、最先端の微細化に取り組む顧客は限定的であり、一方で内製マスクショップへの依存度が高まるとなると、外販フォトマスクメーカーは、縮小する市場に対して高騰するコストをバランスさせなければなりません。結果として、リソグラフィを取り巻く戦略的な関係がマスクメーカー、デバイスメーカー、および研究機関の間に生まれてきています。

最先端リソグラフィのコストが、デバイスの高集積化を上回るスピードで増大するなかで、半導体産業がいかにしてムーアの法則を維持するのかは、現時点では不明です。明らかなのは、フォトマスク市場は成熟し、内製ショップがその資金力を活用して、ますます重要な役割を担っていくだろうということです。とは言うものの、外販ショップもまだ、スタンダードマスクセットの提供とサービス中断時の生産能力を供給することにより、市場において重要な役割を果たします。

SEMIが先ごろ発行した最新のフォトマスク・キャラクタリゼーション・サマリレポートには、2013年のフォトマスク市場の詳細が、7つの地域市場（北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国、その他地域）にわけて記載されています。また、各地域についてのデータの範囲は2006年から2015年となっており、昨年のリソグラフィ開発のサマリーも提供します。

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* 半導体製造装置・材料市場への影響について詳細は、SEMI通信3月号、ダン・トレーシーの記事をご覧ください。

（初出 SEMI Global Update 2014年5月号）