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シリコンウェーハ出荷面積は

2014年から2016年にかけて成長を予測

「シリコン出荷面積の水準は、今年堅調に推移しています。シリコン出荷面積は今年過去最高に達し、続く2年間も成長が持続すると予測されます。」SEMIのプレジデント兼CEO デニー・マクガーク (Denny McGuirk)は、SEMIが最近発表した半導体用シリコンウェーハ出荷面積予測について、このようにコメントしました。

この2014年から2016年にかけてのシリコンウェーハの面積需要に対する予測は、2014年について、鏡面ウェーハとエピウェーハをあわせて、94億1000万平方インチ、2015年については98億4000万平方インチ、2016年については101億6300万平方インチの需要があることを示しています。

2014年シリコンウェーハ出荷面積予測

エレクトロニクスグレードのシリコンウェーハ合計(ノンボリッシュウェーハを除く)
(100万平方インチ)

実績 予測

2012

2013 2014F 2015F 2016F
出荷面積

8,814

8,834 9,410 9,840 10,163
年鑑成長率

0%

0% 7%
5% 3%

出所: SEMI 2014年10月
*出荷面積は半導体用途のみを含み、太陽電池用途は含みません。

本稿に引用したデータは、シリコンウェーハメーカーがエンドユーザーにむけて出荷した鏡面シリコンウェーハ(バージンテストウェーハおよびエピウェーハを含む)が対象となります。ノンポリッシュおよび再生ウェーハは含まれません。

SEMIのシリコンウェーハ出荷面積統計データの履歴については、こちらをご覧ください。
www.semi.org/en/MarketInfo/SiliconShipmentStatistics

(初出 SEMI Global Update 2014年10月号)