2003年
- No.3 (株)ニコン 半導体露光装置
- No.4 (株)日立国際電気 縦型装置
- No.5 東京エレクトロン九州(株) コータ・デベロッパー (MARK V)
- No.6 大日本スクリーン製造(株) 洗浄装置
2004年
- No.1 (株)ディスコ ダイサ
- No.2 (株)日立ハイテクノロジーズ メタル用マイクロ波エッチング装置
- No.3 東京エレクトロン(株) プローバ
- No.4 日新イオン機器(株) イオン注入装置
- No.5 東京応化工業(株) ポジ型フォトレジスト
- No.6 三菱住友シリコン(株) 300ミリ シリコンウエーハ
2005年
- No.1 ジャパンファインプロダクツ(株) 特殊ガス
- No.2 タツモ(株) ウエハー搬送ロボット
- No.3 三機工業(株) クリーン環境の創造
- No.4 HOYA(株) マスクブランクス
- No.5 日本電子材料(株) プローブカード
- No.6 東京エレクトロンAT(株) DRM酸化膜エッチング装置の開発
2006年
- No.1 (株)フジキン 集積化ガスシステム
- No.2 住友精密工業(株) MEMS用シリコン深掘りエッチング装置の開発
- No.3 住友ベークライト(株) 半導体封止材料
- No.4 大日本スクリーン製造(株) 大型ガラス基板用レジストコーダ
- No.5 (株)SEN(旧 住友イートンノバ) 超小型放射光源
- No.6 東京応化工業(株) 液晶用レジスト塗布装置
2007年
- No.1 (株)日立国際電気 縦型SiGeエピタキシャル成長装置開発の道のり
- No.2 栗田工業(株) 半導体工場水処理のクローズドシステム
- No.3 (株)アルバック デバイス配線微細化とPVD成膜技術の競争
- No.4 サムコ(株) マルチチャンバプラズマCVD装置の開発と背景
- No.5 日鉱金属(株) スパッタ成膜中の欠陥低減(材料メーカーのアプローチ)
- No.6 (株)住化分析センター 分析業務における短納期の実現
2008年