米国環境保護庁（EPA）は最近、パーフルオロアルキルおよびポリフルオロアルキル物質(PFAS)を対象としたPFAS少量免除スチュワードシッププログラムを制定し、すべてのPFAS少量免除（LVE）保有者に対し、当該物質の国内製造あるいは輸入を継続するには、LVEを取り下げるか、製造前届出（PMN）申請書を提出することを要求しました。PMN申請プロセスでは、対象物質の排水中への放出禁止や輸入制限が生じる可能性もあり、追加規制を回避するためには高コストな試験が必要となります。
半導体フォトリソグラフィーのサプライヤーにとってPFAS少量免除スチュワードシッププログラムの潜在的なコストは大きく、PMN手数料（1物質あたり16,000ドル）、法務・コンサルティングサービス、試験などの支払いが考えられます。水域への放出が禁止された場合には、廃水の回収、処理、処分が必要となるため、半導体製造施設における後処理コストは相当なものとなるでしょう。
経済的負担を軽減するために、半導体リソグラフィのサプライヤーや半導体ファブは、このEPAの新しい方針に連携して対処し、PMNの制限や試験要件の標準化を図ると共に、SEMIの影響力を活用して米国の半導体製造における当該物質の重要性を説明する必要があります。
SEMIのPFAS少量免除ワーキンググループは、PFAS少量免除スチュワードシッププログラムに起因するサプライチェーンのリスクと川下ユーザーへの影響を最小限に抑えるための戦略を定めるために設立されました。
PFAS少量免除ワーキンググループの活動は次の範囲に及びます。
- サプライヤーとファブのための情報の集積地となって、EPAとのコミュニケーションを組織化する。
- サプライヤーの中で、PMN申請するPFASの構造が類似し協力が可能なグループを特定する。
- EPAが提案する規制や試験要件に関するPMN申請者間の情報を共有する。
- EPAへのアドボカシーを促進するため、必要に応じてコンサルティングや法的支援の調達を促進する。
ワーキンググループでは参加者を募集中です。参加に関心がある方は、Eメールをこちらまでお送りください：ehs@semi.org
Robert Bondererは、JSR北米本社のシニアEHSマネージャーです。